Proyecto MSPM

Área de Longitud
29/04/2011
Proyecto finalizado

Desarrollo y construcción de microscopio metrológico de campo cercano, con integración de técnicas interferométricas de alta resolución basadas en fuentes láser estabilizadas trazadas al patrón nacional de longitud. Trazabilidad directa a la unidad SI de longitud, el metro, de patrones y muestras empleados en el campo de las nanotecnologías, susceptibles de utilización posterior para la calibración y ajuste de instrumentación de medida.

Ref.:
CEM-P8
Financiado por:
CEM
Título:
Desarrollo y construcción de microscopio metrológico de campo cercano
Acrónimo:
MSPM
Periodo:
2009-2013
Investigadores:
4
Contratados:
1
Presupuesto:
600 k€
Participantes:
CEM, SIOS, DME
Objetivos:
  • Proporcionar trazabilidad directa a patrones, muestras y equipos empleados en el campo nano.
  • Desarrollar un sistema de medida de gran exactitud que permita la calibración de patrones y muestras en el rango nanométrico y subnanométrico.
  • Integración de técnicas de microscopía de campo cercano (SPM, Scanning Probe Microscopy) y técnicas interferométricas de alta resolución basadas en la utilización de fuentes láser estabilizadas, con trazabilidad directa al Patrón Nacional de Longitud, el metro.
  • Obtener una incertidumbre en torno a 1 nm, dependiendo de las características de patrones y muestras.
  • Ofrecer servicios de calibración de alto nivel a Institutos de Metrología, Centros de I+D, Universidades e Industria, de forma que sus mediciones cuantitativas queden trazadas a la unidad SI de longitud, dando soporte tanto a sus publicaciones científicas como a sus realizaciones prácticas.
Situación y Resultados:
  • Tras una prórroga de dos años, el proyecto ha concluido en diciembre de 2015.
  • El CEM ha puesto en operación un equipo compuesto por un nanoposicionador SIOS NMM-1 controlado por sistemas láser, en disposición exenta de error de Abbe, trazados directamente a la unidad SI de longitud, y dos sensores, un microscopio de sonda de barrido (SPM) DME Dualscope DS-95-50-E y un sensor láser focus.
  • El campo de medida es de (25 x 25 x 5) mm3 y su resolución de 0,1 nm. El portamuestras es una estructura compacta cuyas superficies externas reflectantes son los espejos de medida de los sistemas interferométricos.
  • Aunque el diseño del equipo y los materiales utilizados permiten garantizar una alta estabilidad térmica, todo el sistema se halla sobre una mesa antivibratoria, dentro de una cubierta acústica, a fin de conferirle también una alta estabilidad mecánica.
  • El sistema ha sido presentado en distintos foros como el “EURAMET Workshop on metrological AFM instrumentation” celebrado en París, la conferencia internacional ImagineNano, celebrada en Bilbao, o las jornadas específicas de presentación de proyectos, celebradas en el CEM.